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2" नीलम आधारित GaN टेम्प्लेट सेमीकंडक्टर सबस्ट्रेट GaN-On-SiC
उत्पाद विवरण:
| उत्पत्ति के प्लेस: | चीन |
| ब्रांड नाम: | ZMKJ |
| मॉडल संख्या: | 4 इंच गण-नीलम |
भुगतान & नौवहन नियमों:
| न्यूनतम आदेश मात्रा: | 2 पीसी |
|---|---|
| मूल्य: | by case |
| पैकेजिंग विवरण: | सफाई कक्ष में सिंगल वेफर कंटेनर |
| प्रसव के समय: | 20 दिनों में |
| भुगतान शर्तें: | टी/टी, वेस्टर्न यूनियन, पेपैल |
| आपूर्ति की क्षमता: | 50 पीसी / माह |
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विस्तार जानकारी |
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| सब्सट्रेट: | GaN-पर-नीलम | परत: | जीएएन टेम्पलेट |
|---|---|---|---|
| परत की मोटाई: | 1-5um | चालकता प्रकार: | एन / पी |
| अभिविन्यास: | 0001 | आवेदन: | उच्च शक्ति / उच्च आवृत्ति इलेक्ट्रॉनिक उपकरण |
| आवेदन 2: | 5G सॉ/BAW डिवाइस | सिलिकॉन मोटाई: | 525um/625um/725um |
| हाई लाइट: | GaN टेम्प्लेट सेमीकंडक्टर सब्सट्रेट,2 "नीलम आधारित सेमीकंडक्टर सब्सट्रेट,GaN-ऑन-SiC सेमीकंडक्टर सब्सट्रेट |
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उत्पाद विवरण
2 इंच 4 इंच 4" 2'' नीलमणि आधारित GaN टेम्पलेट नीलमणि सब्सट्रेट पर GaN फिल्म GaN-ऑन-नीलम GaN वेफर्स GaN सब्सट्रेट GaN विंडोज़
1) कमरे के तापमान पर, GaN पानी, अम्ल और क्षार में अघुलनशील है।
2) गर्म क्षारीय घोल में बहुत धीमी गति से घुलना।
3) NaOH, H2SO4 और H3PO4 खराब गुणवत्ता वाले GaN को जल्दी से नष्ट कर सकते हैं, इन खराब गुणवत्ता वाले GaN क्रिस्टल दोष का पता लगाने के लिए इसका उपयोग किया जा सकता है।
4) एचसीएल या हाइड्रोजन में GaN, उच्च तापमान पर अस्थिर विशेषताएं प्रस्तुत करता है।
5) नाइट्रोजन के अंतर्गत GaN सबसे अधिक स्थिर है।
GaN के विद्युत गुण
1) GaN के विद्युत गुण डिवाइस को प्रभावित करने वाले सबसे महत्वपूर्ण कारक हैं।
2) बिना किसी डोपिंग के GaN सभी मामलों में n था, और सबसे अच्छे नमूने की इलेक्ट्रॉन सांद्रता लगभग 4*(10^16)/c㎡ थी।
3) आम तौर पर, तैयार पी नमूनों को अत्यधिक मुआवजा दिया जाता है।
GaN के ऑप्टिकल गुण
1) उच्च बैंड चौड़ाई (2.3~6.2eV) के साथ वाइड बैंड गैप यौगिक अर्धचालक सामग्री, लाल पीले हरे, नीले, बैंगनी और पराबैंगनी स्पेक्ट्रम को कवर कर सकती है, अब तक कोई भी अन्य अर्धचालक सामग्री प्राप्त करने में असमर्थ है।
2) मुख्य रूप से नीले और बैंगनी प्रकाश उत्सर्जक उपकरण में उपयोग किया जाता है।
GaN सामग्री के गुण
1) उच्च आवृत्ति संपत्ति, 300जी हर्ट्ज पर पहुंचें।(Si 10G है और GaAs 80G है)
2) उच्च तापमान संपत्ति, 300 ℃ पर सामान्य कार्य, एयरोस्पेस, सैन्य और अन्य उच्च तापमान वातावरण के लिए बहुत उपयुक्त।
3) इलेक्ट्रॉन बहाव में उच्च संतृप्ति वेग, कम ढांकता हुआ स्थिरांक और अच्छी तापीय चालकता होती है।
4) अम्ल और क्षार प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध, कठोर वातावरण में उपयोग किया जा सकता है।
5) उच्च वोल्टेज विशेषताएँ, प्रभाव प्रतिरोध, उच्च विश्वसनीयता।
6) बड़ी शक्ति, संचार उपकरण बहुत उत्सुक है।
GaN का मुख्य उपयोग
1) प्रकाश उत्सर्जक डायोड, एलईडी
2) क्षेत्र प्रभाव ट्रांजिस्टर, FET
3) लेजर डायोड, एलडी
| क्रिस्टल की संरचना |
वर्टज़ाइट |
| जालक स्थिरांक (Å) | ए=3.112, सी=4.982 |
| चालन बैंड प्रकार | प्रत्यक्ष बैंडगैप |
| घनत्व (जी/सेमी3) | 3.23 |
| सतह की सूक्ष्म कठोरता (नूप परीक्षण) | 800 |
| गलनांक (℃) | 2750 (एन2 में 10-100 बार) |
| तापीय चालकता (W/m·K) | 320 |
| बैंड गैप एनर्जी (eV) | 6.28 |
| इलेक्ट्रॉन गतिशीलता (V·s/cm2) | 1100 |
| इलेक्ट्रिक ब्रेकडाउन फ़ील्ड (एमवी/सेमी) | 11.7 |