• 5x5 / 10x10 एमएम गैलियम नाइट्राइड वेफर एचवीईपी फ्री स्टैंडिंग चिप टेम्पलेट औद्योगिक
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5x5 / 10x10 एमएम गैलियम नाइट्राइड वेफर एचवीईपी फ्री स्टैंडिंग चिप टेम्पलेट औद्योगिक

5x5 / 10x10 एमएम गैलियम नाइट्राइड वेफर एचवीईपी फ्री स्टैंडिंग चिप टेम्पलेट औद्योगिक

उत्पाद विवरण:

उत्पत्ति के प्लेस: चीन
ब्रांड नाम: zmkj
मॉडल संख्या: गण मन FS-CU-C50-एसएसपी

भुगतान & नौवहन नियमों:

न्यूनतम आदेश मात्रा: 10pcs
मूल्य: 1200~2500usd/pc
पैकेजिंग विवरण: वैक्यूम पैकेज द्वारा एकल वेफर मामला
प्रसव के समय: 1-5weeks
भुगतान शर्तें: टी/टी
आपूर्ति की क्षमता: प्रति माह 50pcs
सबसे अच्छी कीमत संपर्क करें

विस्तार जानकारी

सामग्री: गाएन एकल क्रिस्टल आकार: 10x10/5x5/20x20mmt
मोटाई: 0.35 मिमी प्रकार: N- प्रकार
आवेदन: सेमीकंडक्टर डिवाइस
प्रमुखता देना:

गण वेफर

,

गैलियम फास्फाइड वेफर्स

उत्पाद विवरण

2 इंच का GaN सब्सट्रेट टेम्पलेट,LED के लिए GaN वेफर,Ld के लिए अर्धचालक गैलियम नाइट्राइड वेफर,GaN टेम्पलेट, mocvd GaN वेफर,स्वतंत्र खड़े GaN सब्सट्रेट कस्टम आकार द्वारा,LED के लिए छोटे आकार का GaN वेफर,mocvd गैलियम नाइट्राइड वेफर 10x10 मिमी,5x5mm, 10x5mm GaN वेफर, गैर-पोलर फ्रीस्टैंडिंग GaN सब्सट्रेट ((a-plane और m-plane)

 

GaN वेफर विशेषता

उत्पाद गैलियम नाइट्राइड (GaN) सब्सट्रेट
उत्पाद का वर्णन:

सफीर GaN टेम्पलेट प्रस्तुत किया गया है Epitxial हाइड्राइड वाष्प चरण epitaxy (HVPE) विधि।

प्रतिक्रिया GaCl द्वारा उत्पादित एसिड, जो बदले में गैलियम नाइट्राइड पिघलने के लिए अमोनिया के साथ प्रतिक्रिया करता है।एपिटेक्सियल गैएन टेम्पलेट गैलियम नाइट्राइड एकल क्रिस्टल सब्सट्रेट को बदलने का एक लागत प्रभावी तरीका है.

तकनीकी मापदंडः
आकार 2 "गोल; 50 मिमी ± 2 मिमी
उत्पाद पोजिशनिंग सी-अक्ष <0001> ± 10.
प्रवाहकता प्रकार एन-प्रकार और पी-प्रकार
प्रतिरोध R <0.5Ohm-cm
सतह उपचार (Ga चेहरे) AS बड़े हुए
आरएमएस <1 एनएम
उपलब्ध सतह > 90%
विनिर्देशः

 

GaN एपिटेक्सियल फिल्म (सी प्लेन), एन-प्रकार, 2 "* 30 माइक्रोन, नीलम;

GaN एपिटेक्सियल फिल्म (C प्लेन), एन-प्रकार, 2 "* 5 माइक्रोन नीलम;

GaN एपिटेक्सियल फिल्म (R प्लेन), एन-प्रकार, 2 "* 5 माइक्रोन नीलम;

GaN एपिटेक्सियल फिल्म (एम प्लेन), एन-प्रकार, 2 "* 5 माइक्रोन नीलम।

AL2O3 + GaN फिल्म (एन-प्रकार के डोपेड Si); AL2O3 + GaN फिल्म (पी-प्रकार के डोपेड Mg)

नोटः ग्राहक की मांग के अनुसार विशेष प्लग ओरिएंटेशन और आकार।

मानक पैकेजिंगः 1000 स्वच्छ कक्ष, 100 स्वच्छ बैग या एकल बॉक्स पैकेजिंग
 

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आवेदन

GaN का उपयोग कई क्षेत्रों में किया जा सकता है जैसे कि एलईडी डिस्प्ले, हाई-एनर्जी डिटेक्शन और इमेजिंग,
लेजर प्रोजेक्शन डिस्प्ले, पावर डिवाइस आदि

  • लेजर प्रोजेक्शन डिस्प्ले, पावर डिवाइस आदि
  • दिनांक भंडारण
  • ऊर्जा कुशल प्रकाश व्यवस्था
  • पूर्ण रंग फ्लै डिस्प्ले
  • लेजर प्रक्षेपण
  • उच्च दक्षता वाले इलेक्ट्रॉनिक उपकरण
  • उच्च आवृत्ति वाले माइक्रोवेव उपकरण
  • उच्च ऊर्जा का पता लगाने और कल्पना
  • नयी ऊर्जा सोलर हाइड्रोजन प्रौद्योगिकी
  • पर्यावरण का पता लगाना और जैविक चिकित्सा
  • प्रकाश स्रोत टेराहर्ट्ज बैंड


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विनिर्देशः

  गैर ध्रुवीय स्वतंत्र GaN सब्सट्रेट ((a-plane और m-plane)
पद GaN-FS-a GaN-FS-m
आयाम 5.0 मिमी × 5.5 मिमी
5.0 मिमी × 10.0 मिमी
5.0 मिमी × 20.0 मिमी
अनुकूलित आकार
मोटाई 350 ± 25 μm
अभिविन्यास a-विमान ± 1° एम-प्लेन ± 1°
टीटीवी ≤15 μm
बो ≤20 μm
संवाहक प्रकार एन-प्रकार
प्रतिरोधकता ((300K) < 0.5 Ω·cm
विस्थापन घनत्व 5x10 से कम6सेमी-2
उपयोग करने योग्य सतह क्षेत्रफल > 90%
चमकाना सामने की सतह: Ra < 0.2nm.
पीठ की सतह: अच्छी जमीन
पैकेज वर्ग 100 के स्वच्छ कमरे के वातावरण में, एकल-वेफर कंटेनरों में, नाइट्रोजन वातावरण में पैक किया गया।

 

 


 

 

प्रश्न और उत्तर

 

प्रश्न:GaN वेफर क्या है?

A:GaN वेफरगैलियम नाइट्राइड एक पतला, सपाट सब्सट्रेट है जो गैलियम नाइट्राइड से बना है, जो एक व्यापक बैंड-गैप अर्धचालक सामग्री है जिसका व्यापक रूप से उच्च प्रदर्शन इलेक्ट्रॉनिक्स में उपयोग किया जाता है।GaN वेफर्स इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों के निर्माण के लिए आधार हैंविशेष रूप से उच्च शक्ति, उच्च आवृत्ति और उच्च दक्षता की आवश्यकता वाले अनुप्रयोगों के लिए। यह सामग्री विशेष रूप से उद्योगों जैसे कि पावर इलेक्ट्रॉनिक्स, दूरसंचार,और एलईडी प्रकाश व्यवस्था.

 

 

प्रश्न:क्यों GaN सिलिकॉन से बेहतर है?

A:GaN (गैलियम नाइट्राइड) कई उच्च-प्रदर्शन अनुप्रयोगों में सिलिकॉन से बेहतर हैचौड़ा बैंडगैप3.4 eV सिलिकॉन के 1.1 eV की तुलना में), GaN उपकरणों को सक्षम करने के लिए काम करने के लिएउच्च वोल्टेज,तापक्रम, औरआवृत्तियाँ. GaN काउच्च दक्षताकी ओर जाता हैकम ताप उत्पादनऔरऊर्जा हानि में कमी, इसे पावर इलेक्ट्रॉनिक्स के लिए आदर्श बनाता है,तेज़ चार्जिंग प्रणाली, औरउच्च आवृत्ति अनुप्रयोगइसके अतिरिक्त, GaN मेंबेहतर ऊष्मा चालकताइस प्रकार, GaN आधारित उपकरण अपने सिलिकॉन समकक्षों की तुलना में अधिक कॉम्पैक्ट, ऊर्जा-कुशल और विश्वसनीय हैं।

 

 

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प्रमुख शब्दः#GaN #GalliumNitride #PowerElectronics #HighPerformance #Efficiency #LED #LaserProjection #EnergyEfficientLighting #HighFrequencyDevices #NonPolarGaN #FreestandingGaN #GaNSubstrates #MOCVD

इस उत्पाद के बारे में अधिक जानकारी जानना चाहते हैं
मुझे दिलचस्पी है 5x5 / 10x10 एमएम गैलियम नाइट्राइड वेफर एचवीईपी फ्री स्टैंडिंग चिप टेम्पलेट औद्योगिक क्या आप मुझे अधिक विवरण भेज सकते हैं जैसे कि प्रकार, आकार, मात्रा, सामग्री, आदि।
धन्यवाद!