• फ्री स्टैंडिंग GaN सबस्ट्रेट्स HVPE GaN वेफर्स पाउडर डिवाइस GaN-On-Sapphire GaN-On-SiC
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फ्री स्टैंडिंग GaN सबस्ट्रेट्स HVPE GaN वेफर्स पाउडर डिवाइस GaN-On-Sapphire GaN-On-SiC

फ्री स्टैंडिंग GaN सबस्ट्रेट्स HVPE GaN वेफर्स पाउडर डिवाइस GaN-On-Sapphire GaN-On-SiC

उत्पाद विवरण:

उत्पत्ति के प्लेस: चीन
ब्रांड नाम: zmkj
मॉडल संख्या: GaN-FS-C-U-C50-SSP

भुगतान & नौवहन नियमों:

न्यूनतम आदेश मात्रा: 1 टुकड़ा
मूल्य: 1000~3000usd/pc
पैकेजिंग विवरण: वैक्यूम पैकेज द्वारा सिंगल वेफर केस
प्रसव के समय: 1-5सप्ताह
भुगतान शर्तें: टी/टी
आपूर्ति की क्षमता: प्रति माह 50 पीसी
सबसे अच्छी कीमत संपर्क करें

विस्तार जानकारी

सामग्री: गाएन एकल क्रिस्टल आकार: 2इंच 4इंच
मोटाई: 0.4 mm प्रकार: एन-टाइप/अन-डॉप्ड सी-डॉप्ड सेमी-टाइप
आवेदन: सेमीकंडक्टर डिवाइस आवेदन: पाउडर युक्ति
सतह: एसएसपी पैकेज: एकल वेफर कंटेनर बॉक्स
प्रमुखता देना:

फ्री स्टैंडिंग गैलियम नाइट्राइड सब्सट्रेट

,

HVPE GaN एपि वेफर

,

गैलियम आर्सेनाइड वेफर पाउडर डिवाइस

उत्पाद विवरण

2 इंच का GaN सब्सट्रेट टेम्पलेट,LED के लिए GaN वेफर,Ld के लिए अर्धचालक गैलियम नाइट्राइड वेफर,GaN टेम्पलेट, mocvd GaN वेफर,स्वतंत्र खड़े GaN सब्सट्रेट कस्टम आकार द्वारा,LED के लिए छोटे आकार का GaN वेफर,mocvd गैलियम नाइट्राइड वेफर 10x10 मिमी,5x5mm, 10x5mm GaN वेफर, गैर-पोलर फ्रीस्टैंडिंग GaN सब्सट्रेट ((a-plane और m-plane)

4 इंच 2 इंच स्वतंत्र खड़े GaN सब्सट्रेट HVPE GaN वेफर्स

 

GaN वेफर विशेषता

  1. III-नाइट्राइड ((GaN,AlN,InN)

गैलियम नाइट्राइड एक प्रकार का व्यापक अंतर वाला यौगिक अर्धचालक है। गैलियम नाइट्राइड (GaN) सब्सट्रेट है

एक उच्च गुणवत्ता वाले एकल क्रिस्टल सब्सट्रेट। यह मूल HVPE विधि और वेफर प्रसंस्करण तकनीक के साथ बनाया गया है, जिसे मूल रूप से चीन में 10+ वर्षों के लिए विकसित किया गया है।यह उच्च क्रिस्टलीय है।, अच्छी एकरूपता, और बेहतर सतह की गुणवत्ता। GaN सब्सट्रेट का उपयोग कई प्रकार के अनुप्रयोगों के लिए किया जाता है, सफेद एलईडी और एलडी ((बैंगनी, नीला और हरा) के लिए।बिजली और उच्च आवृत्ति इलेक्ट्रॉनिक उपकरण अनुप्रयोगों के लिए विकास में प्रगति हुई है.

 

निषिद्ध बैंड चौड़ाई (प्रकाश उत्सर्जन और अवशोषण) पराबैंगनी, दृश्य प्रकाश और अवरक्त को कवर करती है।

 

आवेदन

GaN का उपयोग कई क्षेत्रों में किया जा सकता है जैसे कि एलईडी डिस्प्ले, हाई-एनर्जी डिटेक्शन और इमेजिंग,
लेजर प्रोजेक्शन डिस्प्ले, पावर डिवाइस आदि

  • लेजर प्रोजेक्शन डिस्प्ले, पावर डिवाइस आदि
  • ऊर्जा-कुशल प्रकाश व्यवस्था पूर्ण रंग फ्लै डिस्प्ले
  • लेजर प्रक्षेपण उच्च दक्षता वाले इलेक्ट्रॉनिक उपकरण
  • उच्च आवृत्ति माइक्रोवेव उपकरण उच्च ऊर्जा का पता लगाने और कल्पना
  • नई ऊर्जा सोलर हाइड्रोजन प्रौद्योगिकी पर्यावरण पता लगाने और जैविक चिकित्सा
  • प्रकाश स्रोत टेराहर्ट्ज बैंड

 

स्वतंत्र रूप से खड़े GaN वेफर्स के लिए विनिर्देश

आकार 2" 4"
व्यास 500.8 मिमी 士 0.3 मिमी 1000.0 मिमी 士 0.3 मिमी
मोटाई 400 उम्म 士 30 उम्म 450 उम्म 士 30 उम्म
अभिविन्यास (0001) गा-फेस सी-प्लेन (मानक); (000-1) एन-फेस (वैकल्पिक)
002 XRD रॉकिंग वक्र FWHM < 100 आर्क सेकंड
102 XRD रॉकिंग वक्र FWHM < 100 आर्क सेकंड
घुंघरालेपन का रेडियस > 10 मीटर (80% x व्यास पर मापा गया)
एम-प्लेन की ओर 0.5° ± 0.15° [10-10] की ओर @ वेफर केंद्र
ऑर्टोगोनल ए-प्लेन की ओर ऑफकट 0.0° ± 0.15° [1-210] की ओर @ वेफर केंद्र
ऑफ-कट इन-प्लेन दिशा सी-प्लेन वेक्टर प्रक्षेपण प्रमुख OF की ओर इशारा करता है
प्रमुख अभिविन्यास सपाट विमान (10-10) एम-प्लेन 2° (मानक); ±0.1° (वैकल्पिक)
प्रमुख अभिविन्यास फ्लैट लंबाई 16.0 मिमी ±1 मिमी 32.0 मिमी ± 1 मिमी
मामूली अभिविन्यास फ्लैट अभिविन्यास गा-फेस = निचले भाग में प्रमुख OF और बाईं ओर मामूली OF
लघु अभिविन्यास फ्लैट लंबाई 8.0 मिमी ± 1 मिमी 18.0 मिमी ± 1 मिमी
किनारा बेवल घिसा हुआ
टीटीवी (5 मिमी के किनारे को छोड़कर) < 15 um < 30 एमएम
वार्प (5 मिमी के किनारे को छोड़कर) < 20 उम्म < 80 um
धनुष (5 मिमी के किनारे को छोड़कर) -10 उम्म से +5 उम्म -40 उम्म से +20 उम्म
सामने की ओर असमानता (Sa) < 0.3 nm (AFM: 10 um x 10 um क्षेत्र)
< 1.5 nm (WLI: 239 um x 318 um क्षेत्र)
पीछे की तरफ सतह खत्म पॉलिश (मानक); उत्कीर्ण (वैकल्पिक)
पीछे की ओर की रफनेस (Sa) पॉलिशः < 3 nm (WLI: 239 um x 318 um क्षेत्र)
उत्कीर्णः 1 um ± 0.5 um (WLI: 239 um x 318 um क्षेत्र)
लेजर चिह्न मुख्य फ्लैट पर पीछे की ओर
 
विद्युत गुण डोपिंग प्रतिरोध
एन-प्रकार (5) लिकॉन) < 0.02 ओम-सेमी
यूआईडी < 0.2 ओम-सेमी
अर्ध-अछूता (कार्बन) > 1E8 ओम सेमी
 
गड्ढों का ग्रेडिंग सिस्टम घनत्व (पिट/सेमी2) 2 " (पिट) 4" (पिट)
उत्पादन < 0.5 < 10 < 40
अनुसंधान < 1.5 < 30 < 120
बेवकूफ < 2.5 < 50 < 200

 

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फ्री स्टैंडिंग GaN सबस्ट्रेट्स HVPE GaN वेफर्स पाउडर डिवाइस GaN-On-Sapphire GaN-On-SiC 1फ्री स्टैंडिंग GaN सबस्ट्रेट्स HVPE GaN वेफर्स पाउडर डिवाइस GaN-On-Sapphire GaN-On-SiC 2

हमारे ओईएम कारखाने के बारे में

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हमारी फैक्ट्रॉय उद्यम दृष्टि
हम अपने कारखाने के साथ उद्योग के लिए उच्च गुणवत्ता वाले गैएन सब्सट्रेट और अनुप्रयोग प्रौद्योगिकी प्रदान करेंगे।
उच्च गुणवत्ता वाली GaN सामग्री III-नाइट्राइड्स के आवेदन के लिए प्रतिबंधात्मक कारक है, उदाहरण के लिए लंबा जीवन
और उच्च स्थिरता एलडी, उच्च शक्ति और उच्च विश्वसनीयता माइक्रोवेव उपकरणों, उच्च चमक
और उच्च दक्षता, ऊर्जा बचत एलईडी।

अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न
प्रश्न: आप लॉजिस्टिक्स और लागत की आपूर्ति कैसे कर सकते हैं?
(1) हम डीएचएल, फेडेक्स, टीएनटी, यूपीएस, ईएमएस, एसएफ आदि स्वीकार करते हैं।
(2) यदि आपके पास अपना एक्सप्रेस नंबर है, तो यह बहुत अच्छा है।
यदि नहीं, तो हम आपको डिलीवरी करने में सहायता कर सकते हैं। फ्रेट = USD25.0 ((पहला वजन) + USD12.0/kg

प्रश्न: डिलीवरी का समय क्या है?
(1) मानक उत्पादों के लिए जैसे कि 2 इंच 0.33 मिमी के वेफर।
इन्वेंट्री के लिए: डिलीवरी ऑर्डर के 5 कार्य दिवसों के बाद होती है।
अनुकूलित उत्पादों के लिएः वितरण आदेश के बाद 2 या 4 कार्य सप्ताह है।

प्रश्न: भुगतान कैसे करें?
100% टी/टी, पेपैल, वेस्ट यूनियन, मनीग्राम, सुरक्षित भुगतान और व्यापार आश्वासन।

प्रश्न: MOQ क्या है?
(1) स्टॉक के लिए, MOQ 5pcs है।
(2) अनुकूलित उत्पादों के लिए, MOQ 5pcs-10pcs है।
यह मात्रा और तकनीक पर निर्भर करता है।

प्रश्न: क्या आपके पास सामग्री के लिए निरीक्षण रिपोर्ट है?
हम अपने उत्पादों के लिए ROHS रिपोर्ट और पहुंच रिपोर्ट प्रदान कर सकते हैं।

 

 

इस उत्पाद के बारे में अधिक जानकारी जानना चाहते हैं
मुझे दिलचस्पी है फ्री स्टैंडिंग GaN सबस्ट्रेट्स HVPE GaN वेफर्स पाउडर डिवाइस GaN-On-Sapphire GaN-On-SiC क्या आप मुझे अधिक विवरण भेज सकते हैं जैसे कि प्रकार, आकार, मात्रा, सामग्री, आदि।
धन्यवाद!