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| ब्रांड नाम: | ZMSH |
| एमओक्यू: | 1 |
| कीमत: | by case |
| पैकेजिंग विवरण: | कस्टम कार्टन |
| भुगतान की शर्तें: | टी/टी |
SiC Epitaxial Wafers अब SiC उद्योग में सबसे उन्नत रूप कारक के रूप में उभर रहे हैं। सामग्री विज्ञान और विनिर्माण क्षमता के अत्याधुनिक का प्रतिनिधित्व करते हुए,सीआईसी एपिटेक्सियल वेफर्स पावर डिवाइस उत्पादन को बढ़ाने के लिए अद्वितीय अवसर प्रदान करते हैं जबकि प्रति डिवाइस लागत को कम करते हैं.
चूंकि विद्युत वाहनों, नवीकरणीय ऊर्जा और औद्योगिक बिजली इलेक्ट्रॉनिक्स की मांग विश्व स्तर पर लगातार बढ़ रही है, वेफर्स SiC MOSFETs, डायोड,और उच्च थ्रूपुट के साथ एकीकृत पावर मॉड्यूल, बेहतर उपज, और कम विनिर्माण लागत।
व्यापक बैंडगैप गुणों, उच्च थर्मल चालकता, और असाधारण टूटने वोल्टेज के साथ, SiC वेफर्स उन्नत पावर इलेक्ट्रॉनिक्स में प्रदर्शन और दक्षता के नए स्तरों को अनलॉक कर रहे हैं।
सीआईसी एपिटेक्सियल वेफर्स कैसे बने
सीआईसी एपिटेक्सियल वेफर्स के निर्माण के लिए अगली पीढ़ी के सीवीडी रिएक्टर, सटीक क्रिस्टल वृद्धि नियंत्रण और अल्ट्रा-फ्लैट सब्सट्रेट तकनीक की आवश्यकता होती है:
सब्सट्रेट निर्माण
मोनोक्रिस्टलाइन सीआईसी सब्सट्रेट उच्च तापमान उपोषण तकनीक के माध्यम से निर्मित होते हैं और बाद में उप-नैनोमीटर मोटाई तक पॉलिश किए जाते हैं।
सीवीडी एपिटेक्सियल वृद्धि
उन्नत बड़े पैमाने पर सीवीडी उपकरण ~1600 °C पर काम करते हैं ताकि उच्च गुणवत्ता वाले सीआईसी एपिटेक्सियल परतों को 8 ′′ सब्सट्रेट पर जमा किया जा सके, जिसमें बड़े क्षेत्र को संभालने के लिए अनुकूलित गैस प्रवाह और तापमान एकरूपता है।
अनुकूलित डोपिंग
एन-प्रकार या पी-प्रकार के डोपिंग प्रोफाइल पूरे 300 मिमी के वेफर पर उच्च एकरूपता के साथ बनाए जाते हैं।
परिशुद्धता मापन
एकरूपता नियंत्रण, क्रिस्टल दोष निगरानी, और इन-सइट प्रक्रिया प्रबंधन वेफर के केंद्र से किनारे तक स्थिरता सुनिश्चित करते हैं।
व्यापक गुणवत्ता आश्वासन
प्रत्येक वेफर को निम्नलिखित के माध्यम से मान्य किया जाता हैः
एएफएम, रामन और एक्सआरडी
पूर्ण-वेफर दोष मानचित्रण
सतह की असमानता और warp विश्लेषण
विद्युत गुणों के माप
| ग्रेड | 8 इंच एन प्रकार का SiCSubstrate | ||
| 1 | बहुप्रकार | -- | 4HSiC |
| 2 | प्रवाहकता प्रकार | -- | एन |
| 3 | व्यास | मिमी | 200.00±0.5 मिमी |
| 4 | मोटाई | उह | 700±50μm |
| 5 | क्रिस्टल सरफेस ओरिएंटेशन अक्ष | डिग्री | 40.0° ±0.5° की ओर |
| 6 | नाच गहराई | मिमी | 1~1.25 मिमी |
| 7 | नच अभिविन्यास | डिग्री | ±5° |
| 8 | प्रतिरोधकता (औसत) | Ωcm | NA |
| 9 | टीटीवी | उह | NA |
| 10 | एलटीवी | उह | NA |
| 11 | झुकना | उह | NA |
| 12 | वार्प | उह | NA |
| 13 | एमपीडी | सेमी-2 | NA |
| 14 | टीएसडी | सेमी-2 | NA |
| 15 | बीपीडी | सेमी-2 | NA |
| 16 | टेड | सेमी-2 | NA |
| 17 | ईपीडी | सेमी-2 | NA |
| 18 | विदेशी पॉलीटाइप | -- | NA |
| 19 | SF (BSF) 2x2 मिमी ग्रिड आकार) | % | NA |
| 20 | TUA ((कुल उपयोग योग्य क्षेत्र)) ((2x2 मिमी ग्रिड आकार) | % | NA |
| 21 | नाममात्रEdgeExclusion | मिमी | NA |
| 22 | दृश्य खरोंच | -- | NA |
| 23 | खरोंच-संचयी लंबाई ((SiSurface) | मिमी | NA |
| 24 | SiFace | -- | CMPपॉलिश्ड |
| 25 | सीफेस | -- | CMPपॉलिश्ड |
| 26 | सतह की कठोरता (Siface) | एनएम | NA |
| 27 | सतह की कठोरता | एनएम | NA |
| 28 | लेजर मार्किंग | -- | CFace,notch के ऊपर |
| 29 | एजचिप ((फ्रंट एंड बैक सरफेस) | -- | NA |
| 30 | हेक्सप्लेट | -- | NA |
| 31 | दरारें | -- | NA |
| 32 | कण ((≥0.3um) | -- | NA |
| 33 | क्षेत्रकंटोमिनेशन (स्पॉट) | -- | कोई नहीं:दोनों चेहरे |
| 34 | अवशिष्टधातुएंसंदूषण (आईसीपी-एमएस) | परमाणु/सेमी2 | NA |
| 35 | एज प्रोफ़ाइल | -- | चाम्फर, आर-आकार |
| 36 | पैकेजिंग | -- | मल्टी-वेफर कैसेट या सिंगल-वेफर कंटेनर |
सीआईसी एपिटेक्सियल वेफर्स निम्नलिखित क्षेत्रों में विश्वसनीय बिजली उपकरणों के बड़े पैमाने पर उत्पादन की अनुमति देते हैंः
विद्युत वाहन (ईवी)
कर्षण इन्वर्टर, ऑनबोर्ड चार्जर और डीसी/डीसी कन्वर्टर्स।
नवीकरणीय ऊर्जा
सौर स्ट्रिंग इन्वर्टर, पवन ऊर्जा कनवर्टर।
औद्योगिक ड्राइव
कुशल मोटर ड्राइव, सर्वो सिस्टम।
5जी/आरएफ बुनियादी ढांचा
पावर एम्पलीफायर और आरएफ स्विच।
उपभोक्ता इलेक्ट्रॉनिक्स
कॉम्पैक्ट, उच्च दक्षता वाली बिजली आपूर्ति।
18 ̊ सीसी वेफर्स का क्या लाभ है?
वे बढ़े हुए वेफर क्षेत्र और प्रक्रिया उपज के माध्यम से प्रति चिप उत्पादन लागत को काफी कम करते हैं।
28 ̊ सीसी उत्पादन कितना परिपक्व है?
हमारे वेफर्स अब आर एंड डी और वॉल्यूम रैंप के लिए उपलब्ध हैं।
3क्या डोपिंग और मोटाई अनुकूलित की जा सकती है?
हां, डोपिंग प्रोफ़ाइल और एपीआई मोटाई का पूर्ण अनुकूलन उपलब्ध है।
4क्या मौजूदा फैब 8 ̊ SiC वेफर्स के साथ संगत हैं?
पूर्ण 8 ̊ संगतता के लिए छोटे उपकरणों के उन्नयन की आवश्यकता है।
5आम तौर पर लीड टाइम कितना होता है?
प्रारंभिक आदेशों के लिए 6-10 सप्ताह; दोहराए जाने वाले मात्रा के लिए कम।
6कौन-कौन से उद्योग सबसे तेजी से 8°SiC को अपनाएंगे?
ऑटोमोटिव, नवीकरणीय ऊर्जा और ग्रिड बुनियादी ढांचे के क्षेत्र।
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