• 6-इंच कांडक्टिव सिंगल-क्रिस्टल SIC POLYCRYSTALLINE SIC कम्पोजिट सब्सट्रेट पर
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6-इंच कांडक्टिव सिंगल-क्रिस्टल SIC POLYCRYSTALLINE SIC कम्पोजिट सब्सट्रेट पर

6-इंच कांडक्टिव सिंगल-क्रिस्टल SIC POLYCRYSTALLINE SIC कम्पोजिट सब्सट्रेट पर

उत्पाद विवरण:

उत्पत्ति के प्लेस: चीनी
ब्रांड नाम: ZMSH

भुगतान & नौवहन नियमों:

Minimum Order Quantity: 1
मूल्य: undetermined
Packaging Details: foamed plastic+carton
Delivery Time: 4weeks
Payment Terms: T/T
आपूर्ति की क्षमता: 1 पीसी / माह
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विस्तार जानकारी

उत्पाद का प्रकार: एकल-क्रिस्टल sic एपिटैक्सियल वेफर (समग्र सब्सट्रेट) Wafer Size: 6 inches (150 mm)
सब्सट्रेट प्रकार: बहुमूल्य सिसक समग्र Crystal Structure: 4H-SiC or 6H-SiC Single Crystal
प्रमुखता देना:

6-इंच सिलिकॉन कार्बाइड वेफर

,

एकल क्रिस्टल सिलिकॉन कार्बाइड वेफर

उत्पाद विवरण

पॉलीक्रिस्टलाइन सीआईसी कम्पोजिट सब्सट्रेट पर 6 इंच का चालक एकल क्रिस्टल सीआईसी

 

 

पॉलीक्रिस्टलाइन सीआईसी कम्पोजिट सब्सट्रेट पर 6 इंच के संवाहक एकल-क्रिस्टल सीआईसी का सारe

 

6-इंच कांडक्टिव सिंगल-क्रिस्टल SIC POLYCRYSTALLINE SIC कम्पोजिट सब्सट्रेट पर 0पॉलीक्रिस्टल पर 6 इंच का चालक एकल क्रिस्टल सीआईसीलाइन SiC कम्पोजिट सब्सट्रेट एक नया प्रकार का अर्धचालक सब्सट्रेट संरचना है।

 

इसका मूल एक एकल क्रिस्टल प्रवाहकीय SiC पतली फिल्म को एक पॉलीक्रिस्टलाइन सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) सब्सट्रेट पर बांधने या एपिटाक्सियल रूप से बढ़ने में निहित है।इसकी संरचना एकल क्रिस्टल सीआईसी के उच्च प्रदर्शन (जैसे उच्च वाहक गतिशीलता और कम दोष घनत्व) को पॉलीक्रिस्टलाइन सीआईसी सब्सट्रेट के कम लागत और बड़े आकार के फायदे के साथ जोड़ती है।

 

यह उच्च शक्ति, उच्च आवृत्ति उपकरणों के निर्माण के लिए उपयुक्त है और लागत प्रभावी अनुप्रयोगों में विशेष रूप से प्रतिस्पर्धी है।पॉलीक्रिस्टलाइन सीआईसी सब्सट्रेट सेंटरिंग प्रक्रियाओं के माध्यम से तैयार किए जाते हैं, जो लागत को कम करता है और बड़े आकार (जैसे 6 इंच) की अनुमति देता है, लेकिन उनकी क्रिस्टल गुणवत्ता खराब है और सीधे उच्च प्रदर्शन वाले उपकरणों के लिए उपयुक्त नहीं है।

 

विशेषता तालिका, तकनीकी विशेषताएं और लाभपॉलीक्रिस्टलाइन सीआईसी कम्पोजिट सब्सट्रेट पर 6 इंच का चालक एकल क्रिस्टल सीआईसी

 

विशेषता तालिका

 

पद विनिर्देश
उत्पाद का प्रकार सिंगल-क्रिस्टल SiC एपिटेक्सियल वेफर (कॉम्पोसिट सब्सट्रेट)
वेफर का आकार 6 इंच (150 मिमी)
सब्सट्रेट का प्रकार पॉलीक्रिस्टलाइन सीआईसी कम्पोजिट
सब्सट्रेट की मोटाई 400 ¢ 600 μm
सब्सट्रेट प्रतिरोध <0.02 Ω·cm (चालक प्रकार)
पॉलीक्रिस्टलीय अनाज का आकार 50 ‰ 200 μm
ईपिटेक्सियल परत की मोटाई 515 μm (अनुकूलित)
एपिटेक्सियल लेयर डोपिंग प्रकार एन-प्रकार / पी-प्रकार
वाहक एकाग्रता (Epi) 1×1015 ️ 1×1019 सेमी−3 (वैकल्पिक)
ईपिटेक्सियल सतह की रफनेस <1 एनएम (एएफएम, 5 μm × 5 μm)
सतह की ओर उन्मुखता अक्ष के बाहर 4° (4H-SiC) या वैकल्पिक
क्रिस्टल संरचना 4H-SiC या 6H-SiC एकल क्रिस्टल
थ्रेडिंग स्क्रू विस्थापन घनत्व (एसटीएस) <5×104 सेमी−2
बेसल प्लेन विस्थापन घनत्व (बीपीडी) <5×103 सेमी−2
चरण-प्रवाह आकृति विज्ञान स्पष्ट और नियमित
सतह उपचार पॉलिश (एपी-तैयार)
पैकेजिंग एकल वेफर कंटेनर, वैक्यूम सील

 

तकनीकी विशेषताएं और फायदे

 

उच्च चालकताः

एकल क्रिस्टल सीआईसी फिल्मों को डोपिंग (जैसे, एन-प्रकार के लिए नाइट्रोजन डोपिंग) के माध्यम से कम प्रतिरोध (<10−3 Ω·cm) प्राप्त होता है, जो बिजली उपकरणों के लिए कम नुकसान की आवश्यकताओं को पूरा करता है।

 

उच्च ताप चालकता:

सीआईसी में सिलिकॉन की थर्मल चालकता का तीन गुना से अधिक है, जिससे ईवी इन्वर्टर जैसे उच्च तापमान वाले वातावरण के लिए उपयुक्त प्रभावी गर्मी अपव्यय संभव हो जाता है।

 

उच्च आवृत्ति विशेषताएंः

एकल क्रिस्टल सीआईसी की उच्च इलेक्ट्रॉन गतिशीलता 5जी आरएफ उपकरणों सहित उच्च आवृत्ति स्विचिंग का समर्थन करती है।

 

पॉलीक्रिस्टलाइन सब्सट्रेट के माध्यम से लागत में कमी:

पॉलीक्रिस्टलाइन सीआईसी सब्सट्रेट पाउडर सिंटरिंग द्वारा उत्पादित होते हैं, जिनकी कीमत एकल क्रिस्टल सब्सट्रेट के लगभग 1/5 से 1/3 तक होती है, और 6 इंच या बड़े आकारों तक स्केलेबल होती है।

 

विषम बंधन प्रौद्योगिकीः

उच्च तापमान और उच्च दबाव बंधन प्रक्रियाएं एकल क्रिस्टल SiC और पॉलीक्रिस्टलाइन सब्सट्रेट इंटरफेस के बीच परमाणु स्तर पर बंधन प्राप्त करती हैं,परंपरागत एपिटाक्सियल विकास में आम दोषों से बचें.

 

यांत्रिक शक्ति में सुधारः

पॉलीक्रिस्टलाइन सब्सट्रेट की उच्च कठोरता एकल क्रिस्टल सीआईसी की भंगुरता की भरपाई करती है, जिससे डिवाइस की विश्वसनीयता बढ़ जाती है।

 

भौतिक छवि प्रदर्शन

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पॉलीक्रिस्टलाइन सीआईसी कम्पोजिट सब्सट्रेट पर 6 इंच के संवाहक एकल-क्रिस्टल सीआईसी का निर्माण प्रक्रिया

 

 

पॉलीक्रिस्टलाइन SiC सब्सट्रेट तैयारी:

सिलिकॉन कार्बाइड पाउडर को उच्च तापमान सिंटरिंग के माध्यम से पॉलीक्रिस्टलाइन सब्सट्रेट (~ 6 इंच) में बनाया जाता है।

 

एकल क्रिस्टल सीआईसी फिल्म वृद्धिः

सिंगल-क्रिस्टल सीआईसी परतें पॉलीक्रिस्टलाइन सब्सट्रेट पर रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) या भौतिक वाष्प परिवहन (पीवीटी) का उपयोग करके एपिटेक्सियल रूप से उगाई जाती हैं।

 

बंधन प्रौद्योगिकीः

एकल क्रिस्टल और पॉलीक्रिस्टलाइन इंटरफेस पर परमाणु स्तर पर बंधन धातु बंधन (जैसे, चांदी पेस्ट) या प्रत्यक्ष बंधन (डीबीई) के माध्यम से प्राप्त किया जाता है।

 

एनीलिंग उपचार:

उच्च तापमान पर एनीलिंग से इंटरफेस की गुणवत्ता में सुधार होता है और संपर्क प्रतिरोध में कमी आती है।

 

 

 

के मुख्य अनुप्रयोग क्षेत्रपॉलीक्रिस्टलाइन SiC कम्पोजिट सब्सट्रेट पर 6 इंच का संवाहक एकल क्रिस्टल SiC

 

 

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नई ऊर्जा वाहन

- मुख्य इन्वर्टर: संवाहक एकल क्रिस्टल SiC MOSFETs इन्वर्टर की दक्षता में सुधार करते हैं (हानि को 5% से 10% तक कम करते हैं) और आकार और वजन को कम करते हैं। - ऑन-बोर्ड चार्जर (OBC):उच्च आवृत्ति स्विचिंग विशेषताएं चार्जिंग समय को कम करती हैं और 800V उच्च वोल्टेज प्लेटफार्मों का समर्थन करती हैं.

 

 

 

 

 

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औद्योगिक बिजली आपूर्ति और फोटोवोल्टिक

- उच्च आवृत्ति इन्वर्टरः पीवी प्रणालियों में उच्च रूपांतरण दक्षता (> 98%) प्राप्त करना, समग्र प्रणाली लागत को कम करना।

- स्मार्ट ग्रिड: उच्च वोल्टेज समवर्ती धारा (एचवीडीसी) ट्रांसमिशन मॉड्यूल में ऊर्जा हानि को कम करें।

 

 

 

 

 

 

 

 

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एयरोस्पेस और रक्षा

- विकिरण-कठिन उपकरण: एकल-क्रिस्टल SiC® का विकिरण प्रतिरोध उपग्रह बिजली प्रबंधन मॉड्यूल के लिए उपयुक्त है।

- इंजन सेंसरः उच्च तापमान सहिष्णुता (>300°C) शीतलन प्रणाली के डिजाइन को सरल बनाता है।

 

 

 

 

 

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आरएफ और संचार

- 5जी मिलीमीटर वेव डिवाइसः एकल क्रिस्टल सीआईसी आधारित गाएन एचईएमटी उच्च आवृत्ति और उच्च शक्ति उत्पादन प्रदान करते हैं।

- उपग्रह संचार: पॉलीक्रिस्टलाइन सब्सट्रेट ∙ कंपन प्रतिरोध कठोर अंतरिक्ष वातावरण के अनुकूल।

 

 

 

 

प्रश्न और उत्तर

 

प्रश्न:एक पॉलीक्रिस्टलीय SiC कम्पोजिट सब्सट्रेट पर 6 इंच का एकल क्रिस्टल SiC कितना प्रवाहकीय है?

 

A:चालकता का स्रोत: एकल क्रिस्टल SiC की चालकता मुख्य रूप से अन्य तत्वों (जैसे नाइट्रोजन या एल्यूमीनियम) के साथ डोपिंग द्वारा प्राप्त की जाती है। डोपिंग प्रकार n-प्रकार या p-प्रकार हो सकता है,विभिन्न विद्युत चालकता और वाहक सांद्रता के परिणामस्वरूप.

 

पॉलीक्रिस्टलाइन सीआईसी का प्रभावः पॉलीक्रिस्टलाइन सीआईसी में आमतौर पर ग्रिड दोषों और विखंडन के कारण कम चालकता होती है जो इसके चालक गुणों को प्रभावित करती है। इसलिए,एक मिश्रित सब्सट्रेट में, पॉलीक्रिस्टलाइन भाग समग्र चालकता पर कुछ अवरोधक प्रभाव हो सकता है।

 

मिश्रित संरचना के फायदे:पोलीक्रिस्टलाइन सीआईसी के साथ प्रवाहकीय एकल क्रिस्टल सीआईसी को मिलाकर सामग्री के समग्र उच्च तापमान प्रतिरोध और यांत्रिक शक्ति में संभावित सुधार किया जा सकता है, जबकि कुछ अनुप्रयोगों में अनुकूलित डिजाइन के माध्यम से वांछित चालकता भी प्राप्त करता है।

 

अनुप्रयोग क्षमताः This composite structure is often used in high-power electronic devices and high-temperature environments because its excellent thermal and electrical conductivity make it suitable for operation under extreme conditions.

 

 

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