सिरेमिक डिस्क सफाई-वाक्सिंग एकीकृत मशीन स्वचालित अर्धचालक उद्योग
उत्पाद विवरण:
उत्पत्ति के प्लेस: | चीनी |
ब्रांड नाम: | ZMSH |
विस्तार जानकारी |
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आयाम: | 7740 × 3390 × 2300 मिमी (L × W × H) | विद्युत आपूर्ति: | AC380V, 50Hz, कुल पावर 90kW |
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वायवीय आपूर्ति: | 2m g/h, 0.4-0.5mpa तेल-मुक्त शुष्क हवा | जल आपूर्ति: | 2T/H @0.3mpa, of12m · · cm प्रतिरोधकता |
प्रमुखता देना: | अर्धचालक उद्योग सफाई वैक्सिंग एकीकृत मशीन,सिरेमिक डिस्क सफाई वैक्सिंग एकीकृत मशीन |
उत्पाद विवरण
उत्पाद अवलोकन
यह सिरेमिक डिस्क सफाई और वैक्सिंग एकीकृत मशीन दो सिरेमिक डिस्क माउंटर्स के साथ एक सिरेमिक डिस्क क्लीनर को जोड़ती है,नीलम और अर्धचालक उद्योगों में उच्च दक्षता सफाई और वेफर वैक्सिंग के लिए डिज़ाइन किया गया, स्थिर 99.9% उपज दर प्राप्त करता है।
तकनीकी विनिर्देश
पैरामीटर | मूल्य |
आयाम | 7740×3390×2300 मिमी (L×W×H) |
विद्युत आपूर्ति | AC380V, 50Hz, कुल शक्ति 90KW |
वायवीय आपूर्ति | 2m3/h, 0.4-0.5MPa तेल मुक्त शुष्क हवा |
जल आपूर्ति | 2T/h @0.3MPa, ≥12MΩ·cm प्रतिरोध |
कार्य सिद्धांत
सिरेमिक डिस्क सफाई चरण
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सटीक सफाई: सिरेमिक डिस्क से माइक्रोन स्तर के दूषित पदार्थों को हटाने के लिए डीआयोनाइज्ड पानी (≥12MΩ·cm) के साथ अल्ट्रासोनिक सफाई का उपयोग करता है।
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सुखाने की प्रणाली: उच्च दक्षता वाले वायु चाकू और वैक्यूम सुखाने से शून्य अवशिष्ट नमी सुनिश्चित होती है।
स्वचालित वैक्सिंग प्रक्रिया
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दृष्टि संरेखण: सीसीडी कैमरे डिस्क सतह निर्देशांक स्कैन, ± 0.02 मिमी स्थिति सटीकता प्राप्त।
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नियंत्रित वैक्स अवशेष: प्रोग्राम करने योग्य वैक्स डिस्पेंसर हेड 0.8g±0.05g वैक्स प्रति वेफर लगाते हैं।
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दबाव अनुकूलन: वाइपर की स्थापना के दौरान वायवीय एक्ट्यूएटर 5-10N/cm2 समान स्पर्श दबाव बनाए रखते हैं।
एकीकृत नियंत्रण
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सिंक्रनाइज़ ऑपरेशन: पीएलसी सफाई मॉड्यूल और दोहरे वैक्सिंग स्टेशनों का समन्वय करता है, जो समानांतर प्रसंस्करण (अधिकतम 30 डिस्क/घंटे) को सक्षम करता है।
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गुणात्मक प्रतिक्रिया: वास्तविक समय मोटाई सेंसर मोम परत एकरूपता का पता लगाते हैं, यदि विचलन ± 3% से अधिक है तो पैरामीटर स्वचालित रूप से समायोजित करते हैं।
मुख्य लाभ
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ऊर्जा दक्षता: शुद्ध जल पुनर्चक्रण दर > 80%, मोम की खपत 0.8g/वॉफर, प्रति डिस्क 35% कम ऊर्जा
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स्मार्ट कनेक्टिविटी: पूर्ण प्रक्रिया डेटा की ट्रेसेबिलिटी के लिए एमईएस/ईआरपी के साथ संगत (घाटा/दबाव/समय)
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स्केलेबलता: Φ300-650 मिमी गैर मानक डिस्क के लिए अनुकूलन योग्य उपकरण और व्यंजनों
उत्पादन क्षमता
वेफर का आकार | डिस्क व्यास | मात्रा | चक्र समय |
4 इंच | Φ485 मिमी | 11 पीसी | 5 मिनट/डिस्क |
4 इंच | Φ576 मिमी | 13 पीसी | 6 मिनट/डिस्क |
6 इंच | Φ485 मिमी | 6pcs | 3 मिनट/डिस्क |
6 इंच | Φ576 मिमी | 8pcs | 4 मिनट/डिस्क |
8 इंच | Φ485 मिमी | 3pcs | 2 मिनट/डिस्क |
8 इंच | Φ576 मिमी | 5pcs | 3 मिनट/डिस्क |
आवेदन
पूर्ण प्रक्रिया सिरेमिक डिस्क उपचारः एक मशीन में सफाई→सूखी→वाक्सिंग
इसका उपयोग अर्धचालक सामग्री जैसे सिलिकॉन कार्बाइड (SiC), सिलिकॉन (Si), गैलियम नाइट्राइड (GaN) के प्रसंस्करण में किया जाता है, और इसका उपयोग नीलम, सिरेमिक, क्रिस्टल,एमईएमएस, और ऑप्टिकल उत्पाद।
प्रश्न और उत्तर
प्रश्न 1: उपज दर कैसे सुनिश्चित की जाए?
A1: सिरेमिक डिस्क के लिए समर्पित दृष्टि प्रणाली वास्तविक समय में संरेखण सटीकता ±0.02 मिमी प्राप्त करती है।
Q2: सिरेमिक डिस्क की सफाई में पानी की खपत?
A2: पानी की पुनर्चक्रण दर > 80%, खपत ≤ 0.5L/डिस्क
Q3: वेफर आकार में तेजी से बदलाव कैसे प्राप्त किया जाए?
A3: एकीकृत मशीन की स्मार्ट फिक्स्चर लाइब्रेरी स्वचालित रूप से HMI चयन के माध्यम से टूलींग स्विच करती है (चेंजओवर समय <3 मिनट) ।