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कीरोपुलोस विधि द्वारा 80-400 किलोग्राम के लिए नीलमणि क्रिस्टल वृद्धि भट्ठी ((KY)

कीरोपुलोस विधि द्वारा 80-400 किलोग्राम के लिए नीलमणि क्रिस्टल वृद्धि भट्ठी ((KY)

ब्रांड नाम: ZMSH
एमओक्यू: 1
भुगतान की शर्तें: टी/टी
विस्तृत जानकारी
उत्पत्ति के प्लेस:
चीनी
क्रिस्टल आकार सीमा:
व्यास: 10-500 मिमी, मोटाई: 50-300 मिमी
वृद्धि दर:
0.1-5 मिमी/घंटा
Melting Temperature:
2000–2200°C
गैस प्रणाली:
एआर/एच ₂ गैस मिश्रण
​Vacuum Level:
≤1×10⁻⁶ Pa
आयाम:
लगभग। 1200 × 800 × 1500 मिमी
प्रमुखता देना:

नीलमणि क्रिस्टल वृद्धि मशीन

,

KY सफीर क्रिस्टल वृद्धि मशीन

उत्पाद का वर्णन

 

उत्पाद का अवलोकन: नीलमणि क्रिस्टल वृद्धि को फिर से परिभाषित करना

 

नीलम (Al2O3), जिसे प्रकृति की सबसे कठोर पारदर्शी सामग्री के रूप में जाना जाता है, अर्धचालकों, प्रकाशिकी और उपभोक्ता इलेक्ट्रॉनिक्स में महत्वपूर्ण है।पारंपरिक चोक्राल्स्की (सीजेड) विधियों में उच्च थर्मल तनाव और क्रिस्टल दोषों से जूझना पड़ता है, उच्च अंत बाजारों में उनके आवेदन को सीमित करते हैं।केवाई श्रृंखला नीलम बढ़ाने की मशीनरोजगार देता है किरोपोलोस पद्धति, एआई संचालित थर्मल नियंत्रण और मॉड्यूलर डिजाइन को एकीकृत करने के लिएशून्य विस्थापनयह प्रौद्योगिकी ग्राहकों को फोटोनिक्स और उन्नत सामग्री नवाचार की अगली लहर का नेतृत्व करने में सक्षम बनाती है।

मुख्य तकनीकी सफलताएं

  • सटीक थर्मल फील्ड नियंत्रण: गतिशील फीडबैक एल्गोरिदम भट्ठी तापमान में उतार-चढ़ाव सुनिश्चित करते हैं ≤ ± 0.5°C, आंतरिक तनाव को काफी कम करते हैं।
  • संपर्क रहित खींचना: बीज क्रिस्टल यांत्रिक संदूषण से मुक्त रहते हैं, उद्योग में अग्रणी क्रिस्टल अखंडता प्राप्त करते हैं।
  • लचीली उत्पादन स्केलेबिलिटी: प्रयोगशाला-स्केल (10 मिमी) से औद्योगिक-स्केल (500 मिमी+) नीलमणि क्रिस्टल के विकास का समर्थन करता है।

 

 


 

तकनीकी विनिर्देश और अंतर

 

घटक

तकनीकी विनिर्देश
क्रिस्टल विकास व्यास: 10500 मिमी, मोटाईः 50300 मिमी (समायोज्य), विकास दरः 0.1-5 मिमी/घंटा (निरंतर परिवर्तनीय)
पिघलने की भट्ठी क्वार्ट्ज क्रिजबल, अधिकतम तापमानः ≥2200°C; शक्तिः 100-200kW (पीआईडी आधारित सटीक नियंत्रण)
गैस प्रणाली Ar/H2 मिश्रण नियंत्रण (± 1% प्रवाह सटीकता); अल्ट्रा-हाई वैक्यूम ≤1×10−6 Pa (ULV-ग्रेड वातावरण)
बुद्धिमान निगरानी तापमान, दबाव और क्रिस्टल आकृति विज्ञान के लिए वास्तविक समय डेटा अधिग्रहण; एआई दोष पूर्वानुमान मॉडल (प्रतिक्रिया समय <3 सेकंड)

 

मुख्य लाभ:

  • ऊर्जा दक्षता: पारंपरिक प्रणालियों की तुलना में 25% कम बिजली की खपत, परिचालन लागत को कम करना।
  • भविष्य के लिए डिज़ाइनमॉड्यूलर वास्तुकला 8 इंच के वेफर उत्पादन लाइनों के उन्नयन का समर्थन करती है।

 


 

 

सामग्री प्रदर्शन और गुणवत्ता आश्वासन

 

उत्कृष्ट सामग्री गुण​​

  • ऑप्टिकल उत्कृष्टता: एआर/वीआर लेंस, लेजर विंडो और ऑप्टिकल सेंसर के लिए फुल स्पेक्ट्रम ट्रांसमिशन (>92% @ 1903500nm)
  • थर्मल प्रबंधन: 15 W/m·K की थर्मल चालकता और अत्यधिक तापमान स्थिरता के लिए 5.7×10−6/°C का थर्मल विस्तार गुणांक (CTE) ।
  • यांत्रिक मजबूती: विकर कठोरता 2000kgf/mm2 और झुकने की ताकत > 4000MPa, कंपन और यांत्रिक सदमे का सामना करता है।

सख्त गुणवत्ता नियंत्रण​​

  • स्थान पर निरीक्षण: वास्तविक समय में दोष विश्लेषण के लिए एकीकृत एक्स-रे टोमोग्राफी और लेजर फैलाव।
  • प्रमाणपत्र: आईएसओ 9001 (गुणवत्ता प्रबंधन), आईईसी 60529 (आईपी संरक्षण), RoHS अनुपालन।

 


 

ग्राहक के कारखाने में ZMSH KY नीलमणि क्रिस्टल वृद्धि भट्ठी

कीरोपुलोस विधि द्वारा 80-400 किलोग्राम के लिए नीलमणि क्रिस्टल वृद्धि भट्ठी ((KY) 0  कीरोपुलोस विधि द्वारा 80-400 किलोग्राम के लिए नीलमणि क्रिस्टल वृद्धि भट्ठी ((KY) 1  कीरोपुलोस विधि द्वारा 80-400 किलोग्राम के लिए नीलमणि क्रिस्टल वृद्धि भट्ठी ((KY) 2

 


 

अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न (FAQ)

 

 

प्रश्न: क्या उपकरण डोपिंग प्रक्रियाओं का समर्थन करता है?
एः हाँ. एलईडी फॉस्फर नीलम के सबस्ट्रिंग्स के लिए Fe2+/Ti4+ डोपिंग उपलब्ध है (प्रकाश दक्षता में 20% सुधार) ।

 

प्रश्न: मशीन का पदचिह्न क्या है?
उत्तरः मानक मॉडल 12 से 15 वर्ग मीटर पर कब्जा कर लेता है, जो क्लीनरूम तैनाती के साथ संगत है।

 

प्रश्न: रखरखाव की लागतों का प्रबंधन कैसे करें?
उत्तर: निवारक रखरखाव योजनाओं से अनुमानित विश्लेषण और स्पेयर पार्ट्स के भंडार सहित वार्षिक लागत में 40% की कमी आती है।

 

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