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सिलिकॉन कार्बाइड वेफर्स 3C-N प्रकार 5*5 & 10*10 मिमी इंच व्यास मोटाई 350 μm±25 μm
सिलिकॉन कार्बाइड वेफर्स 3C-N प्रकार का सार
यह सारांश सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) 3C-N प्रकार के वेफर्स का परिचय देता है, जो 350 μm ± 25 μm की मोटाई के साथ 5x5 मिमी और 10x10 मिमी के आकार में उपलब्ध हैं।इन वेफर्स को ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स में उच्च प्रदर्शन अनुप्रयोगों की सटीक आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए डिज़ाइन किया गया है, पावर इलेक्ट्रॉनिक्स, और एआर प्रौद्योगिकियों के साथ अपने बेहतर थर्मल चालकता, यांत्रिक शक्ति, और विद्युत गुणों के साथ, SiC 3C-N वेफर्स बढ़ी हुई स्थायित्व और गर्मी अपव्यय प्रदान करते हैं,उन्हें उच्च थर्मल स्थिरता और कुशल ऊर्जा प्रबंधन की आवश्यकता वाले उपकरणों के लिए आदर्श बनानानिर्दिष्ट आयाम और मोटाई उन्नत औद्योगिक और अनुसंधान अनुप्रयोगों की एक विस्तृत श्रृंखला में संगतता सुनिश्चित करती है।
सिलिकॉन कार्बाइड वेफर्स 3C-N प्रकार का विज़िट्रेन
सिलिकॉन कार्बाइड वेफर्स 3C-N प्रकार के गुण और डेटा चार्ट
सामग्री का प्रकार: 3C-N सिलिकॉन कार्बाइड (SiC)
यह क्रिस्टलीय रूप उत्कृष्ट यांत्रिक और थर्मल गुण प्रदान करता है, जो उच्च प्रदर्शन अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त है।
आकार:
दो मानक आकारों में उपलब्ध हैः 5x5 मिमी और 10x10 मिमी।
मोटाई:
मोटाईः 350 μm ± 25 μm
परिशुद्धता से नियंत्रित मोटाई यांत्रिक स्थिरता और विभिन्न उपकरण आवश्यकताओं के साथ संगतता सुनिश्चित करती है।
ऊष्मा चालकता:
सीआईसी में उत्कृष्ट थर्मल चालकता है, जो कुशल गर्मी अपव्यय की अनुमति देता है, जिससे यह थर्मल प्रबंधन की आवश्यकता वाले अनुप्रयोगों के लिए आदर्श है, जैसे कि एआर ग्लास और पावर इलेक्ट्रॉनिक्स।
यांत्रिक शक्ति:
सीआईसी में उच्च कठोरता और यांत्रिक शक्ति होती है, जो स्थायित्व और पहनने और विरूपण के प्रतिरोध प्रदान करती है, जो मांग वाले वातावरण के लिए आवश्यक है।
विद्युत गुण:
सीआईसी वेफर्स में उच्च विद्युत टूटने वाला वोल्टेज और कम थर्मल विस्तार होता है, जो उच्च शक्ति और उच्च आवृत्ति वाले उपकरणों के लिए महत्वपूर्ण हैं।
ऑप्टिकल स्पष्टता:
सीआईसी में कुछ ऑप्टिकल तरंग दैर्ध्य में उत्कृष्ट पारदर्शिता है, जिससे यह ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक और एआर प्रौद्योगिकियों में उपयोग के लिए उपयुक्त है।
उच्च स्थिरता:
तापीय और रासायनिक तनाव के प्रतिरोध के लिए SiC कठोर परिस्थितियों में दीर्घकालिक विश्वसनीयता सुनिश्चित करता है।
ये गुण SiC 3C-N प्रकार के वेफर्स को उन्नत इलेक्ट्रॉनिक और ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक उपकरणों के साथ-साथ अगली पीढ़ी की एआर प्रौद्योगिकियों में उपयोग के लिए अत्यधिक बहुमुखी बनाते हैं।
5*5 & 10*10मिमी इंच SiC 晶片产品标准
5*5 & 10*10 मिमी इंच व्यास सिलीकंस कार्बाइड (SiC)
等级 ग्रेड |
अनुसंधान स्तर अनुसंधान ग्रेड (आर ग्रेड) |
试片级 डमी ग्रेड (डी ग्रेड) |
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उत्पादन ग्रेड (पी ग्रेड) |
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आयाम व्यास | 5*5mm±0.2mm और 10*10mm±0.2mm | |||||
厚度 मोटाई | 350μm±25 μm | |||||
晶片方向 वेफर अभिविन्यास | धुरी से बाहरः 2.0°-4.0° दिशा में [112 | 0] 4H/6H-P के लिए ± 0.5°, 3C-N के लिए अक्ष परः ¥111 ¥ ± 0.5° | ||||
微管 घनत्व माइक्रोपाइप घनत्व | 0 सेमी-2 | |||||
电阻率 ※प्रतिरोधकता | 4H/6H-P | ≤0.1 Ω.cm | ||||
3C-N | ≤0.8 mΩ•cm | |||||
主定位边方向 प्राथमिक फ्लैट अभिविन्यास | 4H/6H-P | {10-10} ±5.0° | ||||
3C-N | {1-10} ±5.0° | |||||
主定位边长度 प्राथमिक फ्लैट लंबाई | 15.9 मिमी ±1.7 मिमी | |||||
次定位边长度 माध्यमिक फ्लैट लंबाई | 8.0 मिमी ±1.7 मिमी | |||||
次定位边方向 माध्यमिक फ्लैट ओरिएंटेशन | सिलिकॉन ऊपर की ओर मुड़ा हुआः प्राइम फ्लैट से 90° सीडब्ल्यू ±5.0° | |||||
边缘 हटाना किनारा बहिष्करण | 3 मिमी | 3 मिमी | ||||
总厚度变化/?? 曲度/?? 曲度 टीटीवी/बॉव/वार्प | ≤2.5 μm/≤5 μm/≤15 μm/≤30 μm | |||||
表面 粗度※ असमानता | पोलिश Ra≤1 nm | |||||
CMP Ra≤0.2 nm | ||||||
边缘裂纹 (强光灯观测) उच्च तीव्रता प्रकाश द्वारा किनारे दरारें | कोई नहीं | 1 अनुमत है, ≤1 मिमी | ||||
六方空洞 ((强光灯观测) ※ उच्च तीव्रता प्रकाश द्वारा हेक्स प्लेट्स | संचयी क्षेत्रफल ≤1 % | संचयी क्षेत्रफल≤3 % | ||||
多型 ((强光灯观测) ※ उच्च तीव्रता प्रकाश द्वारा बहुप्रकार क्षेत्र | कोई नहीं | संचयी क्षेत्रफल≤2 % | संचयी क्षेत्रफल ≤ 5% | |||
सी 面划痕 (强光灯观测) उच्च तीव्रता प्रकाश से सिलिकॉन सतह खरोंच |
कोई नहीं 3 अनुमति है, ≤0.5 मिमी प्रत्येक 5 अनुमति है, ≤1 मिमी प्रत्येक
|
1×वेफर पर 5 खरोंच व्यास संचयी लंबाई |
8 खरोंच 1 × वेफर व्यास संचयी लंबाई के लिए | |||
崩边 ((强光灯观测) एज चिप्स हाई बाय इंटेंसिटी लाइट लाइट | कोई नहीं | 3 अनुमति दी, ≤0.5 मिमी प्रत्येक | 5 अनुमति दी, ≤ 1 मिमी प्रत्येक | |||
¥ चेहरा प्रदूषक (强光灯观测) उच्च तीव्रता से सिलिकॉन सतह दूषित |
कोई नहीं | |||||
包装 पैकिंग | मल्टी-वेफर कैसेट या सिंगल-वेफर कंटेनर |
नोट्स:
* दोष सीमाएं पूरी वेफर सतह पर लागू होती हैं, सिवाय किनारे के बहिष्करण क्षेत्र के. # खरोंचों की जांच केवल Si चेहरे पर की जानी चाहिए.
सिलिकॉन कार्बाइड वेफर्स 3C-N प्रकार के अनुप्रयोग
सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) वेफर, विशेष रूप से 3C-N प्रकार, SiC का एक प्रकार है जिसमें इसकी घन क्रिस्टल संरचना (3C-SiC) के कारण अद्वितीय विशेषताएं हैं।इन वेफर्स का उपयोग मुख्य रूप से विभिन्न उच्च प्रदर्शन और विशेष अनुप्रयोगों में उनके उत्कृष्ट गुणों के कारण किया जाता है3 सी-एन प्रकार के सीआईसी वेफर्स के कुछ प्रमुख अनुप्रयोगों में शामिल हैंः
संक्षेप में, 3सी-एन प्रकार के सीआईसी वेफर्स मुख्य रूप से पावर इलेक्ट्रॉनिक्स, उच्च आवृत्ति उपकरणों, कठोर वातावरण के लिए सेंसर, ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स, क्वांटम उपकरणों और एयरोस्पेस अनुप्रयोगों में उपयोग किए जाते हैं,जहां उनके अद्वितीय गुणों जैसे व्यापक बैंडगैप, थर्मल स्थिरता और उच्च इलेक्ट्रॉन गतिशीलता पारंपरिक सिलिकॉन आधारित सामग्रियों की तुलना में महत्वपूर्ण फायदे प्रदान करती है।
प्रश्न और उत्तर
3C सिलिकॉन कार्बाइड क्या है?
3C सिलिकॉन कार्बाइड (3C-SiC)सिलिकॉन कार्बाइड के पॉलीटाइप में से एक है, जो इसकी घन क्रिस्टल संरचना द्वारा विशेषता है, जो इसे 4H-SiC और 6H-SiC जैसे अधिक सामान्य हेक्सागोनल रूपों से अलग करता है।3C-SiC का घन जाली कई उल्लेखनीय लाभ प्रदान करता है.
सबसे पहले, 3C-SiC प्रदर्शनीइलेक्ट्रॉन गतिशीलता अधिक, उच्च आवृत्ति और शक्ति इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों के लिए विशेष रूप से तेजी से स्विचिंग की आवश्यकता अनुप्रयोगों में यह फायदेमंद बनाता है।बैंडगैपअन्य SiC पॉलीटाइप की तुलना में कम (लगभग 2.36 eV) है, यह अभी भी उच्च-वोल्टेज और उच्च-शक्ति वातावरण में अच्छा प्रदर्शन करता है।
इसके अतिरिक्त, 3C-SiC मेंउच्च ताप चालकताऔरयांत्रिक शक्तियह सिलिकॉन कार्बाइड के लिए विशिष्ट है, जो इसे अत्यधिक तापमान और उच्च तनाव वाले वातावरण जैसे चरम परिस्थितियों में काम करने में सक्षम बनाता है।ऑप्टिकल पारदर्शिता, जिससे यह एलईडी और फोटोडेटेक्टर जैसे ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त है।
नतीजतन, 3C-SiC का व्यापक रूप से उपयोग किया जाता हैपावर इलेक्ट्रॉनिक्स,उच्च आवृत्ति वाले उपकरण,ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स, औरसेंसर, विशेष रूप से उच्च तापमान और उच्च आवृत्ति परिदृश्यों में, जहां इसके अद्वितीय गुण महत्वपूर्ण लाभ प्रदान करते हैं।