औद्योगिक सेमीकंडक्टर सबस्ट्रेट S Fe Zn Doped InP Indium Phosphide सिंगल क्रिस्टल वेफर

2 इंच / 3 इंच / 4 इंच एस / एफई / जेडएन डोप्ड आईएनपी इंडियम फास्फाइड सिंगल क्रिस्टल वेफर

इंडियम फॉस्फाइड (InP) उच्च इलेक्ट्रॉनिक सीमा बहाव गति, अच्छा विकिरण प्रतिरोध और अच्छी तापीय चालकता के फायदे के साथ एक महत्वपूर्ण यौगिक अर्धचालक सामग्री है।उच्च आवृत्ति, उच्च गति, उच्च शक्ति वाले माइक्रोवेव उपकरणों और एकीकृत सर्किट के निर्माण के लिए उपयुक्त।यह व्यापक रूप से ठोस-राज्य प्रकाश व्यवस्था, माइक्रोवेव संचार, फाइबर-ऑप्टिक संचार, सौर कोशिकाओं, मार्गदर्शन / नेविगेशन, उपग्रह और नागरिक और सैन्य अनुप्रयोगों के अन्य क्षेत्रों में उपयोग किया जाता है।

zmkj आईएनपी वेफर की पेशकश कर सकता है -ईण्डीयुम फास्फाइडजो LEC (लिक्विड एनकैप्सुलेटेड Czochralski) या VGF (वर्टिकल ग्रेडिएंट फ़्रीज़) द्वारा एपि-रेडी या मैकेनिकल ग्रेड के रूप में n टाइप, p टाइप या सेमी-इंसुलेटिंग अलग-अलग ओरिएंटेशन (111) या (100) में उगाए जाते हैं।

इंडियम फॉस्फाइड (InP) इंडियम और फास्फोरस से बना एक द्विआधारी अर्धचालक है।इसमें एक चेहरा-केंद्रित क्यूबिक ("जिंक ब्लेंड") क्रिस्टल संरचना है, जो GaAs और अधिकांश III-V अर्धचालकों के समान है। इंडियम फॉस्फाइड को सफेद फास्फोरस और इंडियम आयोडाइड [स्पष्टीकरण की आवश्यकता] की प्रतिक्रिया से 400 पर तैयार किया जा सकता है। डिग्री सेल्सियस, [5] उच्च तापमान और दबाव पर शुद्ध तत्वों के सीधे संयोजन द्वारा, या एक ट्रायलकिल इंडियम यौगिक और फॉस्फाइड के मिश्रण के थर्मल अपघटन द्वारा भी।अधिक सामान्य अर्धचालक सिलिकॉन और गैलियम आर्सेनाइड के संबंध में इसके बेहतर इलेक्ट्रॉन वेग के कारण उच्च-शक्ति और उच्च-आवृत्ति वाले इलेक्ट्रॉनिक्स [उद्धरण वांछित] में आईएनपी का उपयोग किया जाता है।

आईएनपी वेफर प्रसंस्करण
प्रत्येक पिंड को वेफर्स में काटा जाता है जो लैप्ड, पॉलिश और एपिटाइक्सी के लिए तैयार सतह होते हैं।समग्र प्रक्रिया का विवरण यहां दिया गया है।
फ्लैट विनिर्देश और पहचान	ओरिएंटेशन को वेफर्स पर दो फ्लैट्स (ओरिएंटेशन के लिए लंबा फ्लैट, पहचान के लिए छोटा फ्लैट) द्वारा दर्शाया गया है।आमतौर पर ईजे मानक (यूरोपीय-जापानी) का उपयोग किया जाता है।वैकल्पिक फ्लैट कॉन्फ़िगरेशन (यूएस) का उपयोग ज्यादातर 4" वेफर्स के लिए किया जाता है।
गुलदस्ते का उन्मुखीकरण	या तो सटीक (100) या गलत दिशा वाले वेफर्स पेश किए जाते हैं।
OF . के उन्मुखीकरण की शुद्धता	ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक उद्योग की जरूरतों के जवाब में,हमओएफ ओरिएंटेशन की उत्कृष्ट सटीकता के साथ वेफर्स प्रदान करता है: <0.02 डिग्री।यह सुविधा एज-एमिटिंग लेज़र बनाने वाले ग्राहकों के लिए और उन निर्माताओं के लिए भी एक महत्वपूर्ण लाभ है जो अलग-अलग मरने के लिए तैयार हैं - अपने डिजाइनरों को सड़कों पर बर्बाद "रियल-एस्टेट" को कम करने की इजाजत देता है।
एज प्रोफाइल	दो सामान्य विनिर्देश हैं: रासायनिक बढ़त प्रसंस्करण या यांत्रिक बढ़त प्रसंस्करण (एक किनारे की चक्की के साथ)।
चमकाने	वेफर्स को एक रासायनिक-यांत्रिक प्रक्रिया के माध्यम से पॉलिश किया जाता है जिसके परिणामस्वरूप एक सपाट, क्षति-मुक्त सतह होती है।हमडबल-साइड पॉलिश और सिंगल-साइड पॉलिश (लैप्ड और नक़्क़ाशीदार बैक साइड के साथ) वेफर्स दोनों प्रदान करता है।
अंतिम सतह की तैयारी और पैकेजिंग	वेफर्स पॉलिशिंग के दौरान उत्पन्न ऑक्साइड को हटाने के लिए कई रासायनिक चरणों से गुजरते हैं और स्थिर और समान ऑक्साइड परत के साथ एक साफ सतह बनाने के लिए जो एपिटैक्सियल ग्रोथ-एपिरेडी सतह के लिए तैयार है और जो ट्रेस तत्वों को बेहद निम्न स्तर तक कम कर देता है।अंतिम निरीक्षण के बाद, वेफर्स को इस तरह से पैक किया जाता है जिससे सतह की सफाई बनी रहे। ऑक्साइड हटाने के लिए विशिष्ट निर्देश सभी प्रकार की एपिटैक्सियल तकनीकों (MOCVD, MBE) के लिए उपलब्ध हैं।
डेटाबेस	हमारे सांख्यिकीय प्रक्रिया नियंत्रण/कुल गुणवत्ता प्रबंधन कार्यक्रम के हिस्से के रूप में, प्रत्येक पिंड के साथ-साथ क्रिस्टल गुणवत्ता और वेफर्स के सतह विश्लेषण के लिए विद्युत और यांत्रिक गुणों को रिकॉर्ड करने वाला व्यापक डेटाबेस उपलब्ध है।फैब्रिकेशन के प्रत्येक चरण में, अगले चरण में जाने से पहले उत्पाद का निरीक्षण किया जाता है ताकि वेफर से वेफर तक और बाउल से बाउल तक उच्च स्तर की गुणवत्ता स्थिरता बनाए रखी जा सके।

2-4 इंच . के लिए विशिष्टता

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