सीआईसी वाहक प्लेट थर्मल चालकता संक्षारण प्रतिरोध एमओसीवीडी वेफर
उत्पाद विवरण:
उत्पत्ति के प्लेस: | चीनी |
ब्रांड नाम: | ZMSH |
भुगतान & नौवहन नियमों:
भुगतान शर्तें: | टी/टी |
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विस्तार जानकारी |
उत्पाद विवरण
सीआईसी वाहक प्लेट का परिचय
SiC कैरियर प्लेट उच्च शुद्धता वाले सिलिकॉन कार्बाइड से बने एक सटीक समर्थन सब्सट्रेट है। यह उत्कृष्ट थर्मल चालकता, उच्च कठोरता, यांत्रिक शक्ति,और रासायनिक संक्षारण के लिए उत्कृष्ट प्रतिरोधएक सटीक मशीनीकृत और पॉलिश सतह के साथ, सीआईसी वाहक प्लेटों का व्यापक रूप से वेफर प्रसंस्करण, एमओसीवीडी एपिटेक्सी, उच्च तापमान एनीलिंग और अन्य मांग वाले अनुप्रयोगों में उपयोग किया जाता है।क्वार्ट्ज या एएलएन जैसी पारंपरिक सामग्री की तुलना मेंसीआईसी उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता और विस्तारित सेवा जीवन प्रदान करता है।
कार्य सिद्धांतसीआईसी वाहक प्लेट से
उच्च तापमान प्रक्रियाओं में, SiC वाहक प्लेट वेफर्स या पतली फिल्म सामग्री को ले जाने के लिए एक समर्थन के रूप में कार्य करती है। इसकी उच्च थर्मल चालकता समान गर्मी वितरण सुनिश्चित करती है,प्रक्रिया की स्थिरता और एकरूपता में सुधारइसके अतिरिक्त, इसकी कठोरता और रासायनिक निष्क्रियता के कारण, प्लेट संक्षारक वातावरण में भी संरचनात्मक अखंडता बनाए रखती है, जिससे उत्पाद शुद्धता और उपकरण सुरक्षा सुनिश्चित होती है।
विशिष्ट अनुप्रयोगसीआईसी वाहक प्लेट से
- एमओसीवीडी (MOCVD) के एपिटेक्सी में सब्सट्रेट समर्थन
- सीआईसी और गाएन जैसे व्यापक बैंडगैप अर्धचालकों का थर्मल प्रसंस्करण
- वेफर्स के लिए एनीलिंग, सिंटरिंग और डिफ्यूजन प्रक्रियाएं
- एलईडी चिप के निर्माण में गर्मी फैलाने वाले और वाहक
- उच्च वैक्यूम या संक्षारक वातावरण में सामग्री परिवहन और समर्थन
प्रश्न और उत्तरसीआईसी वाहक प्लेट से
Q1: SiC वाहक प्लेटों का अधिकतम कार्य तापमान क्या है?
A: SiC प्लेट आमतौर पर प्रसंस्करण वातावरण और अवधि के आधार पर 1600°C या उससे अधिक के तापमान का सामना कर सकती है।
प्रश्न 2: सीआईसी की तुलना एएलएन या क्वार्ट्ज वाहक से कैसे की जाती है?
A: SiC उच्च ताप चालकता, उत्कृष्ट थर्मल सदमे प्रतिरोध और लंबे समय तक सेवा जीवन प्रदान करता है, जिससे यह कठोर और बार-बार उपयोग के अनुप्रयोगों के लिए आदर्श है।
Q3: आकार और आकार अनुकूलित किया जा सकता है?
एकः हाँ, हम अनुकूलित आकार, मोटाई, छेद पैटर्न, और सतह खत्म अपने विशिष्ट उपकरण और प्रक्रिया आवश्यकताओं के अनुरूप प्रदान करते हैं।
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