ब्रांड नाम: | ZMSH |
मॉडल संख्या: | GaP wafer |
GaP वेफर, गैलियम फॉस्फिड एकल क्रिस्टल अभिविन्यास (111)A 0°±0.2 सौर सेल
गैलियम फॉस्फिड GaP, अन्य III-V यौगिक सामग्री के समान अद्वितीय विद्युत गुणों का एक महत्वपूर्ण अर्धचालक, थर्मोडायनामिक रूप से स्थिर घन ZB संरचना में क्रिस्टलीकृत होता है,यह एक नारंगी पीला अर्ध पारदर्शी क्रिस्टल सामग्री है जिसका अप्रत्यक्ष बैंड अंतर 2 है.26 eV (300K), जो 6N 7N उच्च शुद्धता गैलियम और फास्फोरस से संश्लेषित किया जाता है, और तरल Encapsulated Czochralski (LEC) तकनीक द्वारा एकल क्रिस्टल में विकसित किया जाता है।गैलियम फॉस्फाइड क्रिस्टल को एन-प्रकार के अर्धचालक प्राप्त करने के लिए सल्फर या टेल्यूरियम से युक्त किया जाता है, और पी-प्रकार की चालकता के रूप में जस्ता डोपाइड वांछित वेफर में आगे के निर्माण के लिए, जिसका ऑप्टिकल सिस्टम, इलेक्ट्रॉनिक और अन्य ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक उपकरणों में अनुप्रयोग है।सिंगल क्रिस्टल गैप वेफर तैयार किया जा सकता है आपके एलपीई के लिए एपि-रेडीउच्च गुणवत्ता वाले एकल क्रिस्टल गैलियम फॉस्फाइड गैप वेफर पी-प्रकार,वेस्टर्न मिनमेटल्स (एससी) कॉर्पोरेशन में एन-प्रकार या अनडॉप्ड चालकता 2′′ और 3′′ (50 मिमी) आकार में पेश की जा सकती है।, 75 मिमी व्यास), अभिविन्यास <100>,<11> के साथ सतह खत्म के रूप में कट, पॉलिश या epi-तैयार प्रक्रिया.
पैरामीटर | मूल्य |
---|---|
विकास विधि | एलईसी |
बो | मैक्स:10 |
व्यास | 50.6±0.3 मिमी |
कणों की संख्या | नहीं |
अभिविन्यास कोण | नहीं |
टीटीवी/टीआईआर | मैक्स:10 |
डोपेंट | एस |
लेजर मार्किंग | नहीं |
अभिविन्यास | (111)A 0°±02 |
गतिशीलता | मिनट:100 |
अर्धचालक सामग्री | अर्धचालक सब्सट्रेट |
सतह का ऑक्सीकरण | अल्ट्रा मोटी सिलिकॉन ऑक्साइड वेफर |
ब्रांड नाम: ZMSH
मॉडल संख्याः GaP वेफर
उत्पत्ति का स्थान: चीन
टीटीवी/टीआईआर: अधिकतम:10
मैक्स:10
स्थान/लंबाईः EJ[0-1-1]/ 16±1 मिमी
गतिशीलता: मिन:100
प्रतिरोध: मिन:0.01 अधिकतम:0.5 Ω.cm
विशेषताएं:
• पतली फिल्म तकनीक का प्रयोग
• सिलिकॉन ऑक्साइड वेफर
• विद्युत-ऑक्सीकरण
• अनुकूलित सेवा
हम अपने अर्धचालक सब्सट्रेट उत्पादों के लिए तकनीकी सहायता और सेवाओं की एक विस्तृत श्रृंखला प्रदान करते हैं। विशेषज्ञों की हमारी टीम आपकी आवश्यकताओं के लिए सर्वोत्तम समाधान प्रदान करने के लिए उपलब्ध है।
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