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एसओआई वेफर सिलिकॉन ऑन आइसोलेटर वेफर डोपेंट पी बॉक्स परत 0.4-3 सब्सट्रेट अभिविन्यास 100 111

उत्पाद विवरण:

उत्पत्ति के प्लेस: चीन
ब्रांड नाम: ZMSH
मॉडल संख्या: सोई वेफर

भुगतान & नौवहन नियमों:

न्यूनतम आदेश मात्रा: 1
प्रसव के समय: 2-4 सप्ताह
भुगतान शर्तें: टी/टी, टी/टी
सबसे अच्छी कीमत संपर्क करें

विस्तार जानकारी

व्यास: 4 इंच 6 इंच 8 इंच डोपेंट: 100 111
प्रकार: सिमॉक्स, बेसोई, सिमबॉन्ड, स्मार्ट-कट मोटाई (उम): 0.2-150
एकरूपता: <5% बॉक्स परत: मोटाई (um) 0.4-3
वर्दी: <2.5% प्रतिरोधकता: 0.001-20000 ओम-सेमी
प्रमुखता देना:

100 111 SOI वेफर

,

पी बॉक्स लेयर एसओआई वेफर

,

0.4-3 एसओआई वेफर

उत्पाद विवरण

एसओआई वेफर सिलिकॉन ऑन आइसोलेटर वेफर डोपेंट पी बॉक्स लेयर 0.4-3 सब्सट्रेट ओरिएंटेशन 100 111

एसओआई वेफर का सार

एसओआई वेफर सिलिकॉन ऑन आइसोलेटर वेफर डोपेंट पी बॉक्स परत 0.4-3 सब्सट्रेट अभिविन्यास 100 111 0

एसओआई (सिलिकॉन-ऑन-इन्सुलेटर) वेफर्स मुख्य रूप से माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग में उपयोग की जाने वाली एक प्रकार की अर्धचालक सामग्री तकनीक है।इन वेफर्स को इन्सुलेटिंग सामग्री की एक पतली परत डालकर बनाया जाता है, आमतौर पर सिलिकॉन डाइऑक्साइड, उच्च शुद्धता वाले सिलिकॉन की एक शीर्ष परत और सिलिकॉन सब्सट्रेट के बीच। यह विन्यास पारंपरिक थोक सिलिकॉन वेफर्स की तुलना में कई फायदे प्रदान करता है।

 

एसओआई वेफर की तस्वीर

एसओआई वेफर सिलिकॉन ऑन आइसोलेटर वेफर डोपेंट पी बॉक्स परत 0.4-3 सब्सट्रेट अभिविन्यास 100 111 1एसओआई वेफर सिलिकॉन ऑन आइसोलेटर वेफर डोपेंट पी बॉक्स परत 0.4-3 सब्सट्रेट अभिविन्यास 100 111 2

एसओआई वेफर सिलिकॉन ऑन आइसोलेटर वेफर डोपेंट पी बॉक्स परत 0.4-3 सब्सट्रेट अभिविन्यास 100 111 3एसओआई वेफर सिलिकॉन ऑन आइसोलेटर वेफर डोपेंट पी बॉक्स परत 0.4-3 सब्सट्रेट अभिविन्यास 100 111 4

एसओआई वेफर के गुण

एसओआई (सिलिकॉन-ऑन-इन्सुलेटर) वेफर्स में विशिष्ट गुणों का एक सेट होता है जो उन्हें विभिन्न उच्च-प्रदर्शन और विशेष माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक अनुप्रयोगों में विशेष रूप से मूल्यवान बनाते हैं।यहाँ SOI वेफर्स के कुछ प्रमुख गुण दिए गए हैं:

  1. विद्युत अलगाव: SOI वेफर्स में दफन ऑक्साइड (BOX) परत उपकरण के निर्माण की शीर्ष सिलिकॉन परत और अंतर्निहित सब्सट्रेट के बीच उत्कृष्ट विद्युत अलगाव प्रदान करती है।यह पृथक्करण परजीवी क्षमता को कम करने में मदद करता है, जिससे उच्च गति वाले सर्किटों का प्रदर्शन बेहतर होता है।

  2. बिजली की खपत में कमी: कम परजीवी क्षमता और रिसाव धाराओं के कारण, एसओआई वेफर्स पर निर्मित उपकरण बल्क सिलिकॉन पर निर्मित की तुलना में कम बिजली का उपभोग करते हैं।यह गुण विशेष रूप से पोर्टेबल और बैटरी संचालित उपकरणों के लिए फायदेमंद है.

  3. उच्च प्रदर्शन: पतली ऊपरी सिलिकॉन परत पूरी तरह से समाप्त हो सकती है, जिससे चैनल का बेहतर नियंत्रण होता है और ट्रांजिस्टरों में शॉर्ट-चैनल प्रभाव कम होता है।इसका परिणाम ट्रांजिस्टर में होता है जो उच्च ड्राइव धाराओं के साथ निम्न सीमा वोल्टेज पर काम कर सकते हैं, जो तेज स्विचिंग गति और उच्च प्रदर्शन की अनुमति देता है।

  4. थर्मल इन्सुलेशन: इन्सुलेशन परत सक्रिय परत और सब्सट्रेट के बीच थर्मल इन्सुलेशन की एक डिग्री भी प्रदान करती है।यह अनुप्रयोगों में फायदेमंद हो सकता है जहां डिवाइस द्वारा उत्पन्न गर्मी को शीर्ष परत तक ही सीमित करने की आवश्यकता होती है, थर्मल प्रभावों को अधिक प्रभावी ढंग से प्रबंधित करने में मदद करता है।

  5. लॉक-अप प्रतिरक्षा: एसओआई तकनीक लच-अप के प्रति अंतर्निहित प्रतिरक्षा प्रदान करती है, जो एक प्रकार का शॉर्ट सर्किट है जो थोक सिलिकॉन उपकरणों में हो सकता है।यह सब्सट्रेट में विस्तारित n-प्रकार और p-प्रकार क्षेत्रों के बीच एक p-n जंक्शन की अनुपस्थिति के कारण है, जो कि थोक उपकरणों में लॉक-अप का एक विशिष्ट कारण है।

  6. विकिरण कठोरता: एसओआई वेफर्स की संरचनात्मक विन्यास उन पर निर्मित उपकरणों को विकिरण प्रभावों जैसे कि कुल आयनकारी खुराक (टीआईडी) और एकल घटना उत्परिवर्तन (एसईयू) के प्रति अधिक प्रतिरोधी बनाता है।यह गुण अंतरिक्ष अनुप्रयोगों और उच्च स्तर के विकिरण के संपर्क में आने वाले अन्य वातावरणों के लिए महत्वपूर्ण है.

  7. स्केलेबलता: एसओआई तकनीक अत्यधिक स्केलेबल है, जिससे बहुत छोटे फीचर साइज वाले उपकरणों का निर्माण संभव हो जाता है। यह अर्धचालक उद्योग में मूर के कानून का पालन जारी रखने के लिए महत्वपूर्ण है।

  8. सामान्य विनिर्माण प्रक्रियाओं के साथ संगतता: जबकि अद्वितीय लाभ प्रदान करते हैं, एसओआई वेफर्स को अभी भी पारंपरिक थोक सिलिकॉन के समान कई विनिर्माण तकनीकों का उपयोग करके संसाधित किया जा सकता है,जो मौजूदा उत्पादन लाइनों में एकीकरण की सुविधा देता है.

व्यास 4 ¢ 5 ¢ 6 ¢ 8 ¢

 

 

 

उपकरण परत

डोपेंट बोरॉन, फोस, आर्सेनिक, एंटीमोन, अनडोप
अभिविन्यास <100>, <111>
प्रकार सिमॉक्स, बेसोई, सिम्बॉन्ड, स्मार्ट-कट
प्रतिरोध 0.001-20000 ओम-सेमी
मोटाई 0.2-150
एकरूपता < 5%

 

बॉक्स परत

मोटाई 0.4-3
एकरूपता <2.5%

 

 

सब्सट्रेट

अभिविन्यास <100>, <111>
प्रकार/डोपेंट पी प्रकार/बोरोन, एन प्रकार/फोस, एन प्रकार/एएस, एन प्रकार/एसबी
मोटाई 300-725
प्रतिरोध 0.001-20000 ओम-सेमी
सतह समाप्त पी/पी, पी/ई
कण <10@.0.3um

एसओआई (सिलिकॉन-ऑन-इन्सुलेटर) वेफर्स मुख्य रूप से माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग में उपयोग की जाने वाली एक प्रकार की अर्धचालक सामग्री तकनीक है।इन वेफर्स को इन्सुलेटिंग सामग्री की एक पतली परत डालकर बनाया जाता है, आमतौर पर सिलिकॉन डाइऑक्साइड, उच्च शुद्धता वाले सिलिकॉन की एक शीर्ष परत और सिलिकॉन सब्सट्रेट के बीच। यह विन्यास पारंपरिक थोक सिलिकॉन वेफर्स की तुलना में कई फायदे प्रदान करता है।

एसओआई वेफर्स के अनुप्रयोग

एसओआई (सिलिकॉन-ऑन-इन्सुलेटर) वेफर्स का उपयोग विभिन्न उच्च तकनीक अनुप्रयोगों में उनके अद्वितीय गुणों जैसे कि कम परजीवी क्षमता, उच्च आवृत्तियों पर बेहतर प्रदर्शन,कम बिजली की खपत, और कठोर वातावरण में बढ़ी हुई स्थायित्व। यहाँ SOI वेफर्स के कुछ प्रमुख अनुप्रयोग हैंः

  1. उच्च प्रदर्शन वाले माइक्रोप्रोसेसरएसओआई प्रौद्योगिकी का व्यापक रूप से कंप्यूटर और सर्वर के लिए माइक्रोप्रोसेसर के उत्पादन में उपयोग किया जाता है। यह प्रसंस्करण गति को बढ़ाते हुए बिजली की खपत को कम करने में मदद करता है।जो उच्च प्रदर्शन कंप्यूटिंग अनुप्रयोगों के लिए महत्वपूर्ण है.

  2. रेडियो फ्रीक्वेंसी (आरएफ) सर्किट: एसओआई वेफर्स आरएफ अनुप्रयोगों के लिए विशेष रूप से फायदेमंद हैं क्योंकि उनके उत्कृष्ट अलगाव गुण हैं, जो क्रॉस-टॉक को कम करते हैं और आरएफ स्विचिंग और सिग्नल प्रोसेसिंग में प्रदर्शन में सुधार करते हैं।यह उन्हें मोबाइल फोन में उपयोग के लिए आदर्श बनाता है, वायरलेस नेटवर्क और अन्य संचार उपकरण।

  3. ऑटोमोबाइल इलेक्ट्रॉनिक्सउच्च तापमान और विकिरण स्थितियों में एसओआई आधारित उपकरणों की बढ़ी हुई स्थायित्व और परिचालन स्थिरता उन्हें ऑटोमोटिव अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त बनाती है।इंजन नियंत्रण इकाइयों सहित, ऑटोमोबाइल सेंसर और पावर मैनेजमेंट सिस्टम।

  4. विद्युत उपकरणएसओआई प्रौद्योगिकी विभिन्न इलेक्ट्रॉनिक उत्पादों में वोल्टेज रूपांतरण और बिजली प्रबंधन के लिए उपयोग किए जाने वाले बिजली उपकरणों में फायदेमंद है।इन उपकरणों को उच्च वोल्टेज और बिजली घनत्व को बेहतर दक्षता और कम गर्मी उत्पादन के साथ संभालने की क्षमता से लाभ होता है.

  5. एमईएमएस (माइक्रो-इलेक्ट्रो-मैकेनिकल सिस्टम): एसओआई वेफर्स एमईएमएस उपकरणों, जैसे त्वरणमापक और gyroscopes, जो ऑटोमोबाइल एयरबैग, स्मार्टफोन और अन्य उपभोक्ता इलेक्ट्रॉनिक्स में उपयोग किए जाते हैं, के विकास के लिए एक मजबूत मंच प्रदान करते हैं।एसओआई वेफर्स में दफन ऑक्साइड परत उत्कृष्ट यांत्रिक और विद्युत इन्सुलेशन प्रदान करती है, जो एमईएमएस उपकरणों के लिए महत्वपूर्ण है।

  6. फोटोनिक्स और ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्सएसओआई वेफर्स के गुणों से इलेक्ट्रॉनिक सर्किट के साथ वेवगाइड, मॉड्यूलेटर और डिटेक्टर जैसे ऑप्टिकल घटकों का एकीकरण आसान हो जाता है।यह एकीकरण डेटा संचरण में प्रयुक्त उन्नत ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक प्रणालियों के विकास के लिए महत्वपूर्ण है, दूरसंचार और सेंसरिंग अनुप्रयोग।

  7. क्वांटम कंप्यूटिंग: SOI वेफर्स को क्वांटम कंप्यूटिंग के लिए क्वांटम बिट्स (क्यूबिट्स) विकसित करने के लिए सब्सट्रेट के रूप में भी खोजा जा रहा है।उनकी क्रायोजेनिक तापमान पर काम करने की क्षमता और मौजूदा अर्धचालक प्रक्रियाओं के साथ उनकी संगतता के कारण.

  8. अंतरिक्ष और सैन्य अनुप्रयोग: एसओआई वेफर्स पर निर्मित उपकरण विकिरण प्रभावों के प्रति अधिक प्रतिरोधी होते हैं, जिससे वे अंतरिक्ष अनुप्रयोगों और सैन्य उपकरण के लिए उपयुक्त होते हैं जहां विकिरण के संपर्क में आने से चिंता होती है।

एसओआई प्रौद्योगिकी विकसित होती रहती है, इन अनुप्रयोगों में तेजी से जटिल चुनौतियों का सामना करती है, इलेक्ट्रॉनिक्स में प्रगति को आगे बढ़ाती है और कई क्षेत्रों में नए नवाचारों की सुविधा प्रदान करती है।

प्रश्न और उत्तर

एसओआई सिलिकॉन वेफर क्या है?

 

एसओआई (सिलिकॉन-ऑन-इंसुलेटर) सिलिकॉन वेफर एक प्रकार की अर्धचालक सामग्री है जिसका उपयोग मुख्य रूप से माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग में किया जाता है।यह सिलिकॉन की एक पतली परत से बना है जो एक मोटी सिलिकॉन सब्सट्रेट से इन्सुलेटिंग सामग्री की एक परत से अलग हैयह संरचना विशेष निर्माण प्रक्रियाओं जैसे ऑक्सीजन के प्रत्यारोपण द्वारा पृथक्करण (SIMOX) या स्मार्ट कट तकनीक के माध्यम से प्राप्त की जाती है।

पारंपरिक बल्क सिलिकॉन वेफर्स के मुकाबले एसओआई सिलिकॉन वेफर्स का मुख्य लाभ इन्सुलेटिंग लेयर की उपस्थिति है, जो परजीवी क्षमता को काफी कम करता है।विद्युत रिसाव को कम करके प्रदर्शन को बढ़ाता है, और चिप पर व्यक्तिगत उपकरणों का बेहतर अलगाव प्रदान करता है। इससे इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों की गति, ऊर्जा दक्षता और समग्र प्रदर्शन में सुधार होता है।एसओआई वेफर्स का व्यापक रूप से विभिन्न अनुप्रयोगों में उपयोग किया जाता है, जिसमें उच्च प्रदर्शन वाले माइक्रोप्रोसेसर, रेडियो फ्रीक्वेंसी (आरएफ) सर्किट, पावर इलेक्ट्रॉनिक्स और एमईएमएस (माइक्रो-इलेक्ट्रो-मैकेनिकल सिस्टम) शामिल हैं।उनकी विशेषताएं उन्हें विशेष रूप से उच्च गति वाले वातावरण के लिए उपयुक्त बनाती हैं।, कम बिजली की खपत, और कठोर परिस्थितियों के प्रतिरोध आवश्यक हैं।

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मुझे दिलचस्पी है एसओआई वेफर सिलिकॉन ऑन आइसोलेटर वेफर डोपेंट पी बॉक्स परत 0.4-3 सब्सट्रेट अभिविन्यास 100 111 क्या आप मुझे अधिक विवरण भेज सकते हैं जैसे कि प्रकार, आकार, मात्रा, सामग्री, आदि।
धन्यवाद!